Selfie ProjectGesichtsmaske Donut Worry Cleansing Glaze Wash-Off Mask, 10 g
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Infos zum Produkt
Produktbeschreibung
Produktbeschreibung
- Gesichtsmaske
- Baut Schutzbarriere auf
- Verleiht einen strahlenden Teint
- Für ein strahlend schönes Hautbild
Die Gesichtsmaske Donut Worry Cleansing Glaze Wash-Off Mask von Selfie Project baut die Schutzbarriere der Haut wieder auf und verleiht ihr einen strahlend schönen Teint. Die Kombination aus Niacinamid und Banane glättet Haut.
dm-Artikelnummer: 1412408
GTIN: 5902853094289
Produktmerkmale
Produktmerkmale
- Hauttyp:
- Alle Hauttypen
- Produkteigenschaften:
- Besonders für das Gesicht geeignet, Vegan
- Anwendungsbereich:
- Gesicht
- Textur / Konsistenz / Applikation:
- Creme / Mousse
Inhaltsstoffe
Inhaltsstoffe
Aqua, Caprylic/Capric Triglyceride, Dicaprylyl Carbonate, Butyrospermum Parkii Butter, Bis-Diglyceryl Polyacyladipate-2, Glycerin, Propanediol, Steareth-2, Kaolin, Steareth-21, Cetearyl Alcohol, Musa Paradisiaca Fruit Juice, Niacinamide, Moringa Oleifera Seed Oil, Sodium Ascorbyl Phosphate, Macadamia Ternifolia Seed Oil, Tocopherol, Cellulose, Mannitol, Charcoal Powder, Microcrystalline Cellulose, Oryza Sativa Starch, Zea Mays Starch, Sucrose, Xanthan gum, Mica, Tin Oxide, Hydroxypropyl Methylcellulose, Ethylhexylglycerin, Talc, Phenoxyethanol, Citric Acid, Sodium Benzoate, Potassium Sorbate, Parfum, CI 77891, CI 77491, Cl 74160, Cl 11710, Cl 12490, Cl 73360, Cl 74260.
Verwendungshinweise
Verwendungshinweise
Die Maske auf das gereinigte Gesicht auftragen, dabei die Augen- und Mundpartie aussparen. Nach 15-20 Minuten mit lauwarmem Wasser abwaschen. Tipp: Wenn Du die Haut beim Abwaschen massierst, erhältst Du zusätzlich einen sanften Peelingeffekt.
Aufbewahrungshinweise
Aufbewahrungshinweise
Bei Raumtemperatur aufbewahren.
Anschrift des Unternehmens
Anschrift des Unternehmens
Maurisse GmbH
Brookstieg 4, 22145 Stapelfeld
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